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疎水性工一ロゲルの製法
アルコキシシラン化合物を加水分解し、縮重合するとゲル状の化合物が得られます。これを18℃、5.5MPaの超臨界状態の液化二酸化炭素中にいれ、エタノールと二酸化炭素の混合物を分散媒として満たし、80℃、16MPaの超臨界状態にします。次に疎水性処理剤としてヘキサメチルシラザンを加え、ゲル状物質の表面を疎水化します。その後、超臨界二酸化炭素を流通した後減圧し、ゲル状物質に含まれるエタノールと二酸化炭素を除去すると、疎水性の工一ロゲルが得られます。この方法で得られるエ一ロゲルは表面が完全に疎水化されているので、水分吸着のためのひび割れによる透明度低下がないので透明断熱材、光ファイーバーのクラッド材などとして利用されます。
 
 
 
シリコンウエハー上の感光性樹脂を瞬時に乾燥
シリコンウエハーなどの基板上にを微細パターンをつくる方法として、感光性樹脂を塗布し、次いでパターン露光、現像、エッチングを行うフォトエッチング法が用いられますが、エッチング後の乾燥工程で樹脂膜の変形、破壊、ウォーターマークなどが発生して、歩留まりを低下させるという問題があります。
ところがエッチング後の基板を超臨界二酸化炭素流体の中に入れ残存溶剤等を二酸化炭素流体に溶解させ、次いで圧カを臨界圧以下にすると樹脂膜は瞬時に乾燥されるので、このような問題が起らず、歩留まりを高めることが出来ます。
 
 
 
超臨界で無機多孔体から触媒毒が除去できる
触媒を保持するための無機多孔体としてアルミ・シリカ、力一ポンなどの無機の膨潤性層状多孔体が用いられます。」これらの膨潤性多孔体の層間にケイ素、チタン、ジルコンなどのアルコラートの加水分解物を挿入し、ついで白金、パラジウムなどの触媒を担持させたのち、超臨界二酸化炭素で処理乾燥すると、触媒毒となる塩素などの不純物を完全に除去することが出来ます。
 
 

超臨界による受託試験に関するお問い合わせ先:
株式会社超臨界技術研究所 〒733-0002 広島市西区楠木町3-13-17 TEL:082-537-1633 FAX:082-537-1632
E-Mailでのお問い合わせは:info@chorinkai.co.jp
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